燒結爐用途：

真空燒結爐以?xún)?yōu)質(zhì)電極石墨為加熱元件，采用雙層殼體水冷結構和控溫系統，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用石墨硬碳氈一次成型，保溫效果好，雙層爐殼間配有水冷系統，能保持爐體溫度，該爐具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫速率快、節能等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應用與硬質(zhì)合金、陶瓷、碳化硅、光電鍍膜材料、石墨純化、難熔金屬及合金(鎢、鉬、鎢銅合金)的真空燒結。具有抽氣量大、真空度高、溫度均勻可控和無(wú)泄漏等特點(diǎn)。

燒結爐分為立式和臥式。

a、臥式，爐門(mén)從一側可手動(dòng)，氣動(dòng)，液動(dòng)或電動(dòng)打開(kāi)�？刂乒窳碇�。         

b、立式，爐門(mén)從底部液動(dòng)升起（下出爐型）或從上部打開(kāi)（上出爐型），控制柜另置。

 

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